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8800 ICP-MS/MS
确保的性能,包括标配的 8800 主机型 (#100) 和半导体选项(#200)参数单位元素/比率8800#1008800#200 灵敏度 Mcps/ppm
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质谱仪 ICP-MS100
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美国热电ICP-MS
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美国热电ICP-MS
等离子体状态高稳定性的同位素比 ICP-MS是获得认可的痕量元素分析和定量的高效技术。 其应用范围从半导体工业到地质和环保分析、从生物研究到材料科学。 ICP-MS最严重的限制是元素信号的多原子干扰
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LC-ICP-MS形态分析解决方案LC-ICP-MS联用系统
单元,柱温箱或UV/Vis检测器 ■ 与ICP-MS连接快速、简易,可在多种应用见迅捷切换 ■ 多种可变进样管架及微量滴定盘适合自动化操作 ■ 最小的仪器体积,包含适配
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Meinhard公司雾化、炬管
1.适用于不同型号ICP、ICP-MS的雾化器、雾化室、炬管、泵管、锥2.样品提升率从10微升/分钟到3毫升/分钟不等3.玻璃、石英、PFA等各种材料可供选择4.SPETEC 蠕动泵,及其配件
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Plasma 3000 ICP双向观测全谱分析仪
仪器类型全谱型ICP观测方式双向观测矩管放置垂直放置震荡频率27.12MHz频率稳定性优于0.01%功率稳定性优于0.1%光源类型固态光源光栅类型中阶梯光栅检测器类型背照式CCD技术参数:分析性能检
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Plasma 3 MC-ICP-MS
Plasma 3是第三代多收集器ICP质谱仪(MC-ICP-MS),旨在为同时同位素离子检测提供zei佳的精度和准确性。该仪器保留了独特的,zl的可变色散变焦镜头,可同时测量从十六个法拉第检测器和
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Agilent 7850 ICP-MS 质谱仪
可减少时间浪费,让忙碌的工作人员可以专注于更有价值的任务。7850 ICP-MS 可以处理固体含量高达 25% 的样品,从而减少费时的稀释步骤。这款仪器具有氦模式碰撞池和半质量校正功能,可避免多原子和
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SPECTRO MS双聚焦ICP-MS等离子质谱仪
计算机控制,准确控制样品提升量。蠕动泵与样品架置于仪器左侧且紧靠进样室,缩短样品输送路径,减少管路冲洗时间。激发系统 与SPECTRO ARCOS型ICP光谱仪相同,SPECTRO MS也采用
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